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URI de l'entité : http://www.idref.fr/033443653/idCopier cet URI
Notice de type Rameau

Point d'accès autorisé

Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma

Variante de point d'accès

PECVD
[Nom commun]

Source

PASCAL Lex., 1991

Identifiants externes

Identifiant ARK BNF : http://catalogue.bnf.fr/ark:/12148/cb12430845x

Utilisation dans Rameau

Le point d'accès ne peut être employé que dans un point d'accès sujet
Le point d'accès ne peut s'employer qu'en élément initial

Equivalent dans un autre référentiel

Terme équivalent dans un autre système : Dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma
Date de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2002-11-07
Code du système ou de la classification utilisé : RVMLaval
Terme équivalent dans un autre système : Plasma-enhanced chemical vapor deposition
Date de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2017-02-09
Code du système ou de la classification utilisé : LCSH

Informations sur la notice

Identifiant de la notice : 033443653
RCR créateur de la notice : 0004
Date de création : 21-11-1994
RCR dernier modificateur de la notice : 341720001
Date de dernière modification : 16-06-2021 à 18 h 55

... Références liées : ...