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Identifiant pérenne de la notice : 265954436Copier cet identifiant (PPN)
URI de l'entité : http://www.idref.fr/265954436/idCopier cet URI
Notice de type Rameau

Point d'accès autorisé

Atomic Layer Deposition

Variantes de point d'accès

ALCVD (chimie)
[Nom commun]
ALD (chimie)
[Nom commun]
Atomic Layer Chemical Vapor Deposition
[Nom commun]
Dépôt chimique en phase vapeur par flux alternés
[Nom commun]
Dépôt de couches atomiques
[Nom commun]
Procédé ALD
[Nom commun]
Technique ALD
[Nom commun]

Source

Atomic Layer Deposition (ALD) - Principes généraux, matériaux et applications / N. Schneider, F. Donsanti [in] Techniques de l'ingénieur, 2016, [RE253 v1]
Atomic layer deposition : principles, characteristics, and nanotechnology applications, 2013
Nanotechnologies et nanomatériaux pour l'énergie / P.-C. Lacaze, J.-C. Lacroix, 2021

Identifiants externes

Identifiant ARK BNF : http://catalogue.bnf.fr/ark:/12148/cb180571488

Utilisation dans Rameau

Le point d'accès ne peut être employé que dans un point d'accès sujet
Le point d'accès ne peut s'employer qu'en élément initial

Equivalent dans un autre référentiel

Terme équivalent dans un autre système : Atomic layer deposition
Date de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2023-01-11
Code du système ou de la classification utilisé : LCSH
Date de consultation du référentiel ou de la classification externe : 2023-01-11
Code du système ou de la classification utilisé : RVMLaval

Informations sur la notice

Identifiant de la notice : 265954436
RCR créateur de la notice : 693882101
Date de création : 29-11-2022
RCR dernier modificateur de la notice : 1999
Date de dernière modification : 24-01-2023 à 04 h 04

... Références liées : ...